产品概述
多弧离子镀膜机是近年新开发的真空离子镀膜技术，利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术，是先发展起来的真空镀膜方式，具有沉积速率高快，结合牢固，设备运行稳定等优点，我公司在传统多弧的基础上，封靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计，提高了离化率，细化颗粒，膜层和基材结合牢固，膜层更加致密，硬度耐磨性提高，适用于镀制装饰膜如：金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等，亦可镀防腐触膜（如AL、Cr不锈钢及TIN等）和耐磨膜。膜层与基底结合牢固，适合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的发展前景。
技术参数
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设备型号 |
VLT-800型 |
VLT-1000型 |
VLT-1200型 |
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镀膜室尺寸 |
800×1250 |
1000×1200 |
1200×1500 |
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极限真空度 |
≤4×10-4pa |
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抽气时间 |
从大气抽至6.6×10-2Pa＜10min |
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电弧源 |
6个（2KW/个） |
8个（2KW/个） |
6个（2KW/个） |
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直流负偏压 |
0-1000V 10A
0-500 20A |
0-1000V 12A
0-500 25A |
0-1000V 20A
0-500 30A |
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工件尺寸 |
6轴（220×800） |
6轴（250×1000） |
6轴（280×1300） |
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加热功率 |
15KW |
20KW |
25KW |
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总功率/平均功率 |
40KW/25KW |
50KW/30KW |
58KW/35KW |
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磁控靶（平面或圆柱靶） |
10KW |
15KW |
20KW |
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气体质量流量控制仪 |
三路 |
三路 |
三路 |
设备特性
生产同期：生产同期短-270sec/1同期（干燥无大量放气产品条件）
镀膜材料：通用于各种金属镀膜（铝、镍、铜、铬……等金属材料）
镀膜方式：金属溅射镀膜，膜厚分布均匀
镀膜品质：亮度高、附着力强
镀膜速度：两个20Kw大功率磁控制溅射电机，可以调动功率来控制镀膜速度
除湿能力：真空室内装有雩下140度以下的低温冷冻系统，充分吸收湿气提高真空到达速度
运营费用：溅射电极是自行开发产品，大大提高了靶材的使用效率
占地面精：在固定位置进行上料和下料只要很小的操作空间
操作方法：人机界面可以直观的进行设置和监控，设有管理密码无关人员无法更改
售后服务：设有售后服务中心和配件仓库，可以快速处理使用中的问题
设备原理图示
在适当的真空环境下，接通高压电源，在蒸发源与基片间建立一个低压气体放电的低温等离子区，基片电极上接直流负高压，从而形成辉光放电阴极，镀料气化原子进入此区域与惰性气体离子及电子发生碰撞，离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，将蒸发物或其反应物沉积在积片上。
离子镀膜原理图
