真空镀膜设备的循环水量是指设备在运行过程中所需的水量。根据循环水量的不同，它可以分为大循环和小循环两种类型。大循环是指设备在运行过程中需要大量的水进行冷却和清洗，而小循环则是指设备在运行过程中只要少量的水进行冷却和清洗。

       在工业应用中，真空镀膜设备广为应用于电子、光学、机械等领域。选择合适的真空镀膜设备循环水量对于保障设备的正常运行、上升产品质量具有重要意义。例如，在电子行业中使用大循环的真空镀膜设备可以有效降低设备的温度波动，上升电子产品的性能稳定性；在光学行业中使用小循环的真空镀膜设备可以实现高精度的光学薄膜制备，上升光学产品的成像质量。
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