真空腔体是真空镀膜机中的核心组件之一，它在镀膜过程中扮演着重要的作用。以下是真空腔体在真空镀膜机中的几个主要作用：

       1、创建高真空环境：真空腔体提供了一个密封的空间，通过抽取空腔内的气体，将腔体内部的压力降低到较低的水平，从而创建高真空环境。高真空环境是进行薄膜沉积的基础，可以避免气体干扰和杂质的存在，保障薄膜的质量和均匀性。

       2、隔绝外界干扰：其密封性能能够有效隔绝外界空气、湿气和杂质进入，从而避免这些干扰物质对镀膜过程和薄膜质量的影响。保持良好的真空度可以保障薄膜的纯净性和稳定性。

       3、提供支撑和固定：它通常具有合适的结构和固定装置，用于支撑和固定待镀物体。这有利于保障待镀物体在镀膜过程中的稳定性和均匀性，以及保障薄膜在物体表面的均匀沉积。

       4、安装和连接其他组件：它通常包括安装和连接其他关键组件的接口和通道，如泵系统、镀膜源、监测和控制设备等。这些组件通过与真空腔体的连接，共同构成完整的真空镀膜机系统。

       5、提供温度控制：在一些应用中，它还可以提供温度控制功能，用于控制待镀物体或镀膜源的温度。通过调节温度，可以影响薄膜的生长速率、晶粒尺寸和结构，以满足不同的镀膜要求。